一种脉冲调制等离子体射流的产生方法及其应用
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一种脉冲调制等离子体射流的产生方法及其应用
申请号:
CN202510204129
申请日期:
2025-02-24
公开号:
CN120217829A
公开日期:
2025-06-27
类型:
发明专利
摘要
本发明公开了一种脉冲调制等离子体射流的产生方法及其应用,具体涉及微电子领域,所述方法包括:Ⅰ、构建多学科关联数据库,并调制高压脉冲电源,同时优化脉冲波形参数;Ⅱ、通过高压电极施加脉冲电压生成等离子体射流,建立耦合仿真模型,模拟等离子体射流的演化过程;本发明能够减少人工操作的需求,避免主观偏差与信息损失,提高对抗环境干扰的鲁棒性,能够适应高速、高精度工艺需求;能够避免无效参数组合的测试,提高搜索能力,减少实验或仿真次数,提升射流系统对工况波动的抗干扰能力,降低维护频率。
技术关键词
脉冲调制
多学科
参数
高压脉冲电源
生成等离子体
仿真模型
数据
波形
拉丁超立方采样
评估预测模型
更新知识图谱
生成预测图像
材料相互作用
预测误差
射流发生器
样本
融合特征