一种基于MXene/ZnIn2S4复合气敏材料的制备及其阴极阵列涂覆方法
申请号:CN202510210272
申请日期:2025-02-25
公开号:CN120231003A
公开日期:2025-07-01
类型:发明专利
摘要
本申请公开了一种基于MXene/ZnIn2S4复合气敏材料的制备及其阴极阵列涂覆方法,其属于半导体纳米材料与MEMS气体传感器制造技术领域,通过MXene表面终端调控实现ZnIn2S4的晶面择优生长,提升了气敏材料的稳定性,湿度敏感性低、涂覆均匀性好、靶材利用率高;涂覆方法开发了磁体旋转与基板位移的闭环控制算法,解决了多阴极溅射的阴影效应问题,采用梯度功率溅射策略,在单次工艺中同步完成材料沉积与结构修饰,提高了气体传感器的灵敏度、稳定性和一致性,本申请可广泛应用于高灵敏度、高稳定性的气体传感器的制造。
技术关键词
复合气敏材料
涂覆方法
旋转永磁体
阴极
脉冲偏压电源
行星式
气体传感器
氟化锂
硫代乙酰胺
晶面择优生长
半导体纳米材料
磁控溅射系统
闭环控制算法
刻蚀液
硝酸
纳米片
阵列
多层涂覆
基板
氩气气氛