基于机器学习的半导体材料薄膜的生长方法及装置

本发明公开了一种基于机器学习的半导体材料薄膜的生长方法及装置，所述方法包括：获取当前工艺参数；根据当前工艺参数控制半导体材料薄膜在当前工艺参数下生长；实时采集半导体材料薄膜的当前薄膜质量数据，根据半导体材料薄膜的当前薄膜质量数据，使用预设的机器学习算法预测当前工艺参数对应的半导体材料薄膜的未来生长质量；判断半导体材料薄膜的未来生长质量是否小于预设的生长质量阈值，如果是，则结束生长；如果否，则使用机器学习算法对当前工艺参数进行调整，并继续执行根据当前工艺参数控制半导体材料薄膜在当前工艺参数下生长的步骤。本发明确保了生长过程的高度可控性和产品质量的稳定提升，促进了材料性能预测的准确性。