OPC模型过拟合检测方法、装置、设备及存储介质

申请号：CN202510263996

申请日期：2025-03-06

公开号：CN119882364A

公开日期：2025-04-25

类型：发明专利

摘要

本申请提供了一种OPC模型过拟合检测方法、装置、设备及存储介质，涉及集成电路技术领域，解决了相关技术中难以准确判断OPC模型是否过拟合的问题，本方案能够基于采样点的光强计算，从而快捷简便地确定OPC模型是否过拟合，以便于及时调整模型，进而有助于提升OPC模型的仿真精度。

技术关键词

OPC模型光刻胶模型采样点光强光刻胶轮廓参数版图图层计算机可执行指令集成电路技术强度图像获取模块处理器光学成像简便地存储装置检测设备风险