光刻仿真模型的误差确定方法、装置、设备、介质及产品

本申请公开了一种光刻仿真模型的误差确定方法、装置、设备、介质及产品，涉及光刻仿真技术领域。该光刻仿真模型的误差确定方法包括：获取目标掩模图案的真实光刻轮廓，以及光刻仿真模型输出的目标掩模图案的仿真光刻轮廓；对真实光刻轮廓与仿真光刻轮廓分别进行离散化，构建第一四叉树；根据第一四叉树，确定各真实离散点到仿真光刻轮廓的最短距离，以及各仿真离散点到真实光刻轮廓的最短距离；将各最短距离，分别存储至与第一四叉树对应的同构索引树中，构建第二四叉树；根据第二四叉树，确定光刻仿真模型的误差。根据本申请，能够提高光刻仿真模型的误差确定效率。