一种极紫外光刻掩模相位缺陷的相干调制检测装置及方法
申请号:CN202510327328
申请日期:2025-03-19
公开号:CN120386139A
公开日期:2025-07-29
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种极紫外光刻掩模相位缺陷的相干调制检测方法及装置,通过迭代算法实现纳米级相位缺陷的高精度全场重建。该装置采用紧凑型极紫外光源生成高亮度相干光,经多层膜聚焦光学器件反射聚焦探针光,以布拉格角入射掩模,反射光携带相位缺陷信息,经调制器的振幅‑相位双重调制,将缺陷信息编码为强度信号,光电探测器采集衍射图样后,输入迭代算法:通过支撑约束结合误差放大系数,保证算法的收敛性,正向传播模拟光场的调制,幅度约束修正计算所得光场,反向传播模拟光场的解调,最终实现相位缺陷的定量重建。装置适用于极紫外掩模的在线检测,具有抗噪声能力强、算法收敛性好、对探测器动态范围要求低等优点。
技术关键词
紫外光刻掩模
调制检测方法
调制器
光电探测器
聚焦光学器件
调制检测装置
紫外光源
迭代算法
紧凑型
多层膜
探针
代表
光栅结构
金属板
信息编码
图像传感器