用于光刻模拟的方法、设备和介质

本公开的实施例涉及用于光刻模拟的方法、设备和介质。在此提出的方法包括：从初始光学信号中，确定与光刻工艺中的多次光刻对应的多个光学信号分量；基于多次曝光各自对应的工艺参数，对多个光学信号分量中的各个光学信号分量进行调整，以确定与光刻工艺有关的目标光学信号；以及至少基于目标光学信号，确定光刻胶在经过光刻工艺后的模拟形貌。