SRAF放置方法、装置、存储介质及电子设备
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SRAF放置方法、装置、存储介质及电子设备
申请号:
CN202510504363
申请日期:
2025-04-22
公开号:
CN120012708B
公开日期:
2025-06-20
类型:
发明专利
摘要
本申请公开了一种SRAF放置方法、装置、存储介质及电子设备,其中,该SRAF放置方法包括获取通孔层中目标图形的图形特征和环境特征;根据图形特征和环境特征生成交叉特征;根据图形特征、环境特征和交叉特征构建多维信息矩阵;将多维信息矩阵输入至SRAF参数预测模型,得到SRAF放置参数;根据SRAF放置参数对SRAF进行放置。本方案可以提升SRAF放置的精度。
技术关键词
间距
矩阵
参数
线性回归模型
电子设备
处理器
密度
尺寸
存储器
通孔
指令
变量
精度