一种反卷积辉光放电深度谱分析方法、装置、设备及介质

本发明公开了一种反卷积辉光放电深度谱分析方法。该方法包括，通过基于预设放电参数，采用辉光放电质谱仪对待测样品进行深度谱测量，获得实际测量深度谱；建立实际测量深度谱和实际膜层结构的关联关系；通过双重反卷积方法确定实际膜层结构。本发明实施例的技术方案解决了传统分析方法误差大，耗时久，依赖经验性参数的问题，提高了分析效率和精度，降低了数据噪声对分析的影响。