一种基于近似二次相位掩膜的彩色全息图生成方法

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一种基于近似二次相位掩膜的彩色全息图生成方法
申请号:CN202510662881
申请日期:2025-05-22
公开号:CN120686567A
公开日期:2025-09-23
类型:发明专利
摘要
本发明涉及全息技术领域,特别是涉及一种基于近似二次相位掩膜的彩色全息图生成方法。本发明包括构建近似二次相位;根据所述近似二次相位,从空间域或频域提取优化后的近似二次相位掩膜;将目标图像分解为RGB三通道振幅,将所述优化后的近似二次相位掩膜分别与三通道振幅结合,得到彩色全息图。本发明可以提升计算效率,本发明提出混合优化策略,通过近似二次相位掩膜快速生成高质量初始相位,再结合有限次GS迭代(10‑30次)细化相位分布,将单帧生成时间压缩至5秒以内,较传统GS算法效率提升50%以上,通过规律性相位分布抑制高频噪声,结合双域优化提升相位均匀性,使重建图像的PSNR值超过28dB,SSIM值超过0.9,较随机相位法噪声功率降低30%以上。
技术关键词
彩色全息图 相位掩膜 生成方法 纯相位全息图 抑制高频噪声 图像 三通道 横向偏移量 GS算法 全息技术 噪声功率 生成系统 信噪比 波长 因子 表达式 模块