一种单晶炉真空管道压力测量方法及装置

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一种单晶炉真空管道压力测量方法及装置
申请号:CN202510703145
申请日期:2025-05-29
公开号:CN120232575A
公开日期:2025-07-01
类型:发明专利
摘要
本发明涉及压力检测技术领域,具体涉及一种单晶炉真空管道压力测量方法及装置。该方法量化晶体生长过程中真空管道的温度偏移;对温度数据和生长速率的增长趋势进行匹配分析,通过匹配段组进行温度数据和生长速率的时间延迟量识别;以晶体生长过程中温度数据与生长速率的时间延迟量变化,及压力的偏差变化的关系,分析温度滞后的动态补偿,确定延迟补偿指标;依据延迟补偿指标和温度偏移进行温度数据补偿后,得到当前调整压力测量数据。本发明分析温度与晶体生长的动态伴随情况,通过伴随时延程度确定时延补偿,结合温度偏移补偿温度数据并调整压力,使测量的压力数据能更真实地反映晶体生长过程中的压力状况,提高压力测量的精度。
技术关键词
压力测量方法 真空管道 时间延迟量 单晶炉 数据 指标 偏差 速率 误差曲线 压力检测技术 晶体 DTW算法 时序 处理器 时延 存储器