基于SST k-ω与VOF结合的磁流变微射流抛光CFD建模方法及微结构抛光方法

本发明公开了一种基于SST k‑ω与VOF结合的磁流变微射流抛光CFD建模方法及微结构抛光方法，其包括以下步骤：S1、分析磁流变微射流抛光的质量特性和动量特性，比较分析并选取最接近实际应用场景的流场模型；S2、使用步骤S1所选的流场模型模拟抛光过程中的流场和空气运动场景，通过几何建模、网格划分以及设置边界与具体参数建立磁流变微射流抛光的CDF模型；S3、对步骤S2建立的CFD模型对待抛光工件抛光表面的表面微结构进行仿真分析，得到理想抛光流场的最佳射流直径选择范围。本发明能够模拟仿真得到理想抛光流场的最佳射流直径选择范围，实现高精度、高质量的抛光加工操作。