一种考虑折痕因素的薄膜天线形态分析方法及系统

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一种考虑折痕因素的薄膜天线形态分析方法及系统
申请号:CN202510843130
申请日期:2025-06-23
公开号:CN120745198A
公开日期:2025-10-03
类型:发明专利
摘要
本发明涉及薄膜天线领域,具体涉及一种考虑折痕因素的薄膜天线形态分析方法及系统;基于折叠方案构建折叠膜结构的有限元模型;所述有限元模型包括折痕单元有限元方程、索膜单元及结构有限元方程和折痕单元的边界关系处理;基于有限元模型设计折叠膜结构的优化模型,包括定义设计变量和约束条件,根据设计变量和约束条件,构建多目标优化问题,将目标优化问题转化为单目标函数;基于遗传算法对单目标函数进行迭代求解,得到折叠膜结构的最优形态。本发明可有效实现折叠膜结构的形状与应力设计,实现薄膜天线折痕问题的系统建模与分析,结合优化算法,改善折痕对膜结构应力均匀性的影响,保证薄膜有效区域的应力均匀性,可以有效避免膜内褶皱的出现。
技术关键词
形态分析方法 薄膜天线 折痕 膜结构 方程 遗传算法 坐标系 应力 形态分析系统 变量 节点 函数式 定义 刚度 关系 矩阵 存储计算机程序 分析设备 处理器