QFN引线框架及其制备方法和QFN封装结构

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QFN引线框架及其制备方法和QFN封装结构
申请号:CN202510845712
申请日期:2025-06-24
公开号:CN120376423B
公开日期:2025-09-02
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种QFN引线框架及其制备方法和QFN封装结构,采用蚀刻和冲压相结合的工艺制作QFN引线框架,通过冲压方式对内引脚和基岛进行冲压,使其低于外引脚,呈台阶状,为新型的QFN封装结构提供了一种支撑框架;不仅提高了生产效率,还降低了生产成本,为大规模生产提供了可能性。QFN封装结构采用上下双层引脚结构的引线框架,打破了传统封装焊接点位仅在同一平面的限制,有效增加了芯片内部布线空间与焊点分布空间,提高了封装结构的集成度。本发明中引线框架的结构设计,增加了芯片的散热面积,尤其是通过设置上下两层引脚结构,形成了多层次的散热网络,大幅提高了散热效率,有效满足了大尺寸芯片封装结构的散热需求。
技术关键词
引线框架 贴装半导体芯片 QFN封装结构 阶梯结构 引脚结构 双层引脚 基材 芯片封装结构 铜合金材质 多层次 冲压工艺 蚀刻工艺 锡合金 焊点 支撑框架 布线 正面