针对基于TMM算法计算反射率的验证方法、设备与产品
申请号:CN202510847372
申请日期:2025-06-23
公开号:CN120762256A
公开日期:2025-10-10
类型:发明专利
摘要
本发明提供了一种针对基于TMM算法计算反射率的验证方法、设备与产品。其中针对基于TMM算法计算反射率的验证方法包括:根据待制作的器件类型设计掩模和膜层堆叠结构;根据掩模和膜层堆叠结构的参数基于TMM算法得到每个膜层的第一反射率;将膜层堆叠结构的某一个纵向截面划分为多个区域,每个区域中的每个膜层自身的厚度一致;根据每个区域的参数基于预设算法计算得到每个区域的每个膜层的第二反射率;在对应膜层和对应区域的第一反射率与第二反射率的差值处于预设误差范围时,判定TMM算法满足适用性要求,本发明的方案,能够对基于TMM算法计算出的反射率进行有效地验证;基于一维结构的反射率结果验证三维结构的反射率,降低三维情况下验证的困难度。
技术关键词
反射率
堆叠结构
验证方法
算法
设计掩模
顶部抗反射涂层
图形用户界面
底部抗反射涂层
参数
计算机程序产品
处理器
光刻胶层
三维结构
计算机设备
误差
基底层
存储器
矩阵