一种光刻胶微透镜阵列制备方法及系统

本申请公开了一种光刻胶微透镜阵列制备方法及系统，涉及微纳光学器件制造领域；光刻胶微透镜阵列制备方法包括如下步骤：对硅片进行化学机械抛光处理后，在基板上旋涂光刻胶形成圆柱阵列，并通过预烘消除溶剂梯度；通过等离子体沉积在光刻胶表面形成氟碳纳米膜以降低光刻胶表面能；基于梯度退火实现所述光刻胶的热回流，所述梯度退火包含预热段、主回流段和稳定段；基于所述预热段避免玻璃态转变应力，所述主回流段同步通入含氟气体与惰性气体作用于等离子体鞘层进而调控光刻胶流动方向，抑制边缘咖啡环效应；所述稳定段同步进行等离子体辅助以锁定形状；通过分段温度调控以及等离子体辅助技术提高微透镜阵列的精度和一致性。