一种钕铁硼磁体表面纳米复合镀层的优化方法

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一种钕铁硼磁体表面纳米复合镀层的优化方法
申请号:CN202510852691
申请日期:2025-06-24
公开号:CN120748572A
公开日期:2025-10-03
类型:发明专利
摘要
本发明涉及新材料领域的一种钕铁硼磁体表面纳米复合镀层的优化方法,包括:根据氢脆抑制的优化方案,针对镀层孔隙率高的区域进行局部电镀参数调整,采用多层复合沉积技术对镀层结构进行优化,得到均匀性更高的镀层微观结构数据;根据最终的镀层性能数据,获取力学性能下降的相关指标信息,利用预设的力学性能分析模型对镀层附着力和强度进行数字化评估,确定力学性能的优化结果;针对力学性能的优化结果,通过数据整合技术将所有工艺参数和性能数据录入数据库,形成可追溯的工艺优化档案,得到完整的钕铁硼磁体电镀工艺技术改进记录。
技术关键词
钕铁硼磁体表面 纳米复合镀层 支持向量机算法 纳米颗粒 电镀工艺技术 工艺控制参数 数据录入数据库 数据整合技术 沉积技术 数字化分析技术 粗糙度 镀液配方 修复技术 电场调控 复合镀层结构