一种片上超表面、基于片上超表面的多维复用全息方法

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一种片上超表面、基于片上超表面的多维复用全息方法
申请号:CN202510859974
申请日期:2025-06-25
公开号:CN120630622A
公开日期:2025-09-12
类型:发明专利
摘要
本发明属于微纳光学技术领域,公开了一种片上超表面、基于片上超表面的多维复用全息方法。本发明首先构建片上超表面的单元结构,单元结构包括从下至上依次设置的衬底层、光波导层和纳米结构层,纳米结构层包含一个长方形结构的纳米砖;片上超表面包含的若干个尺寸一致的纳米砖构成纳米砖阵列;然后根据设定的多个目标全息图像,利用迂回相位和几何相位的组合编码,得到纳米砖阵列中每个纳米砖的位置和转角的排布,排布完成后得到最终的片上超表面,利用片上超表面实现入射角度、波长和偏振的三维复用全息。本发明不仅克服了仅正交方向入射的限制,还显著提升了信息存储容量和信息安全性。
技术关键词
复用全息 纳米 全息图像 光波导 波长 衬底层 微纳光学技术 长方形结构 圆偏振 建立映射关系 梯度下降算法 阵列 信息安全性 图像编码 因子 周期 偏振光 坐标系