一种基于信息融合与智能调控的半导体光刻系统

本发明属于信息技术领域，涉及一种基于信息融合与智能调控的半导体光刻系统，具体通过聚焦工业机器人半导体光刻系统，多传感器融合与实时补偿技术将定位偏差大幅缩小，成品率显著提升，人工干预次数锐减。传统光刻图形转移技术图案偏差大、次品率高；多物理场监测与自适应控制技术有效减小偏差，降低次品率。传统光刻胶涂布技术均匀性偏差高、返工率高；多模态数据融合与深度学习技术大幅改善均匀性，降低返工率。传统多机器人协同技术任务完成时间长、设备利用率低；强化学习多机器人协同光刻调度技术则显著缩短任务时间，提高设备利用率。