三维电子密度拟合分析方法、装置、设备、介质及产品

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三维电子密度拟合分析方法、装置、设备、介质及产品
申请号:CN202510869820
申请日期:2025-06-26
公开号:CN120874152A
公开日期:2025-10-31
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种三维电子密度拟合分析方法、装置、设备、介质及产品,该方法包括:获取包括多个体素对应的坐标和电子密度值的三维电子密度体视数据;遍历每个体素,确定出电子密度值等于预设等值面阈值的等值面顶点,生成三维电子密度体视数据的等值面,并计算由等值面构成的三维电子密度轮廓形状的体积和表面积;对三维电子密度轮廓形状进行几何特征提取,得到几何参数;基于几何参数进行几何体拟合,得到几何体拟合模型;基于几何体拟合模型与三维电子密度轮廓形状的体积比和表面积比,评估几何体拟合模型与三维电子密度体视数据之间的拟合程度。本发明支持多几何体模型拟合,增强了对复杂电子密度形状的适配能力,提升电子密度拟合分析的精度。
技术关键词
拟合分析方法 轮廓形状 顶点 选项卡界面 坐标 非暂态计算机可读存储介质 立方体 半轴 协方差矩阵 面片 几何体模型 参数 处理器 数据获取模块 计算机程序产品 特征值 球体 分析装置 控件