涂胶轨迹配方生成方法、涂胶轨迹控制方法、设备及存储介质

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涂胶轨迹配方生成方法、涂胶轨迹控制方法、设备及存储介质
申请号:CN202510873430
申请日期:2025-06-26
公开号:CN120686719A
公开日期:2025-09-23
类型:发明专利
摘要
本申请公开涂胶轨迹配方生成方法、涂胶轨迹控制方法、设备及存储介质,该方法包括:获取至少一个涂胶点所对应的涂胶类型,并确定各个涂胶类型所对应的待配置参数项模板,涂胶类型包含以下中的任意一者:单点涂胶、直线涂胶和往复多行涂胶;根据待配置参数项模板接收用户输入信息,以确定相应的已配置参数列表;调用涂胶类型所对应的模块化代码组件,并结合已配置参数列表,生成相应涂胶点的轨迹控制数据;基于各个涂胶点的轨迹控制数据,生成涂胶轨迹配方。由此,能够统一描述并处理多种类型的涂胶任务,并支持在同一轨迹配方中支持对不同涂胶工艺类型的快速集成,提升对复杂工件涂胶需求的适应能力。
技术关键词
涂胶轨迹 涂胶作业 参数 坐标 列表 生成方法 模板 涂胶头 控件 工件涂胶 直线 终点 涂胶工艺 定位算法 处理器 界面 计算机设备