一种基于全内反射数字全息术的近场层析显微成像方法
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一种基于全内反射数字全息术的近场层析显微成像方法
申请号:
CN202510900468
申请日期:
2025-07-01
公开号:
CN120406072B
公开日期:
2025-09-16
类型:
发明专利
摘要
本发明属于光学显微三维成像技术领域,具体涉及一种基于全内反射数字全息术的近场层析显微成像方法。在满足全内反射的条件下,令激光入射角度由大到小变化,激发穿透深度由浅到深的倏逝波来照明样品,利用二次曝光数字全息干涉术探测有/无样品时反射光波的反射相移差分布,并结合菲涅耳公式计算不同穿透深度下近场区域样品折射率相对于反射相移差的理论曲线,逐像素、逐层解调样品折射率分布,从而实现宽场、无标记近场三维成像。
技术关键词
层析显微成像方法
数字全息术
样品折射率
显微三维成像技术
基底
玻璃
全内反射结构
水性
解调算法
数字全息干涉
激光入射角
介质
全息图
理论
倏逝波
像素