一种需求导向的印染策略指导系统及方法
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一种需求导向的印染策略指导系统及方法
申请号:
CN202510946806
申请日期:
2025-07-10
公开号:
CN120764958A
公开日期:
2025-10-10
类型:
发明专利
摘要
本发明公开了一种需求导向的印染策略指导系统及方法,属于印染工程技术领域,其中系统包括:环境约束获取模块,用于获取印染物的应用环境约束特征;工艺解析模块,用于获得工艺差异参数及差异分布;约束分配模块,用于获得约束地图;印染指导模块,用于利用印染策略进行印染指导。本申请解决了现有印染工程技术中印染设计无法依据应用环境精准分配工艺参数,导致印染物性能与实际需求不匹配的技术问题,达到了在印染工程技术中通过约束地图生成精准印染策略,使印染物性能与应用环境需求一致并提高资源利用效率的技术效果。
技术关键词
约束特征
印染工程技术
策略
地图
参数
印染工艺
模块
表面拓扑结构
区域生长算法
识别风险
画面
像素点
指标
纹理
分区
图案
矩阵
颜色
精度