一种大尺寸低反射率平面高精度平面度测量方法

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一种大尺寸低反射率平面高精度平面度测量方法
申请号:CN202510947733
申请日期:2025-07-10
公开号:CN120445111B
公开日期:2025-09-12
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种大尺寸低反射率平面高精度平面度测量方法,属于光学精密测量技术领域,该方法包括以下步骤:计算子孔径数量和斜入射角度,确定子孔径拼接路径;移相激光干涉仪斜入射角度入射至被测平面,采集椭圆子孔径区域的干涉条纹灰度图像;利用移相干涉算法解算干涉条纹灰度图像,获得子孔径的相位数据;根据确定的子孔径拼接路径移动被测平面,依次获得各子孔径的相位数据;对各子孔径的相位数据进行拼接处理,生成被测平面整体的相位数据;将测量平面整体的相位数据还原被测平面的平面高度数据。该方法对抛光表面依赖性低、对干涉仪口径依赖性低、测量正确率高、稳定性强。
技术关键词
高精度平面度 干涉条纹 激光干涉仪 测量方法 斜率补偿 数据 全局优化算法 反射率 包裹相位 大尺寸 斜入射角 光束 平面反射镜 位移误差 图像 抛光表面 正确率