氮化镓晶圆化学机械平坦化装置及工艺

本发明提供了一种氮化镓晶圆化学机械平坦化装置及工艺，属于晶圆抛光技术领域，氮化镓晶圆化学机械平坦化装置包括沿转运路径顺次分布的前端单元、转运单元、抛光单元和干燥单元，其中，转运单元用于将晶圆在前端单元、抛光单元和干燥单元之间传输；干燥单元包括滚动清洗模块和干燥模块，滚动清洗模块包括位于晶圆上下两侧的滚动清洗部，滚动清洗部用于对晶圆的上下表面同时进行清洗；干燥模块包括清理组件和干燥组件，清理组件用于清洗晶圆残留的污渍，干燥组件用于对完成残留清洗的晶圆进行干燥。本发明提供的氮化镓晶圆化学机械平坦化装置及工艺，旨在解决现有氮化镓晶圆清洗和干燥不彻底，容易导致干燥不均、水渍残留等问题，影响晶圆表面质量的问题。