摘要
本申请公开了一种用于演示芯片制造工艺的晶圆模拟件，属于教育或培训模拟器领域，解决了现有技术中现有芯片制造工艺教学中，教学成本高、风险大的问题。本申请中，通过模拟晶圆盘上的发光器件的点亮控制，模拟芯片制造工艺的薄膜沉积、干法刻蚀和离子注入过程。其中，在薄膜沉积、干法刻蚀的演示过程中，使用动态映射方法，将刻蚀深度、沉积厚度等抽象的工艺参数转换为发光器件的可视化亮度梯度变化。本申请的用于演示芯片制造工艺的晶圆模拟件，不仅成本低、安全性高，还能让学生直观地感受到薄膜沉积、干法刻蚀和离子注入工艺的过程。
