一种基于相位残差的浅层缺陷检测方法、装置及存储介质
申请号:CN202510969009
申请日期:2025-07-15
公开号:CN120471917B
公开日期:2025-10-14
类型:发明专利
摘要
本申请公开了一种基于相位残差的浅层缺陷检测方法、装置及存储介质,用于提高对浅层缺陷的检测精度。获取待测显示屏的反射条纹图;对反射条纹图进行相位回复,生成第一相位恢复数据;根据第一相位恢复数据计算生成第一相位梯度幅值图;根据第一相位梯度幅值图在每个像素处构建局部平均背景梯度;根据第一局部平均背景梯度图和第一相位梯度幅值图生成第一梯度残差图;对第一梯度残差图进行视觉对比度增强处理;对第一异常增强图进行自适应阈值判定,生成第一结构缺陷掩膜图;将第一相位梯度幅值图、第一异常增强图和第一结构缺陷掩膜图进行特征融合;将第一特征融合图输入目标浅层缺陷识别模型进行浅层缺陷检测,生成浅层缺陷检测结果。
技术关键词
反射条纹
缺陷检测方法
缺陷检测装置
掩膜
显示屏
对比度
图像投影
识别模型训练
光强
数据
视觉
像素
可读存储介质
参数
计算机
标签
相机
轮廓