摘要
本发明涉及半导体制备技术领域,提出了一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用。其中光刻胶剥离液包括如下组分:有机胺、有机溶剂和去离子水,所述有机胺包括1‑(咪唑并[1,2‑a]吡啶‑7‑基)乙胺和2‑(1‑三苯甲基‑1H‑咪唑‑4‑基)乙胺中的一种或两种组合物。本发明有机胺选择2‑(1‑三苯甲基‑1H‑咪唑‑4‑基)乙胺与1‑(咪唑并[1,2‑a]吡啶‑7‑基)乙胺,通过其双亲核位点的高效光刻胶分解能力,疏水和π‑π堆积协同作用以及空间位阻和化学表面配位作用,可以提高基板的洁净度,防止光刻胶以溶解态的形式吸附在基板上。