一种用于半导体测量设备的融合标定方法及系统

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一种用于半导体测量设备的融合标定方法及系统
申请号:CN202511070489
申请日期:2025-07-31
公开号:CN121010651A
公开日期:2025-11-25
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种用于半导体测量设备的融合标定方法,包括步骤:S1:执行光学导航仪标定,以建立CCD相机图像坐标系与工件台坐标系之间的第一转换关系;S2:执行SEM图像标定,以建立SEM图像坐标系与工件台坐标系之间的第二转换关系;S3:基于S1生成的第一转换矩阵和S2生成的第二转换矩阵,实现CCD相机图像坐标系、SEM图像坐标系与工件台坐标系的融合标定;其中,融合标定用于在半导体晶圆测量中,通过CCD相机的大视野进行初定位以区分重复图案,并通过SEM图像的高分辨率进行精定位,达到nm级精度。本发明具有显著提升半导体测量设备的精度、稳定性和效率等优点。
技术关键词
融合标定方法 坐标系 CCD相机 工件台 图像 大视野 融合标定系统 半导体晶圆 重复图案 定位算法 标记 导航仪 矩阵 非线性 图案特征 计算机程序产品 处理器 精度