一种氮化物微型共振腔发光二极管芯片的制备方法及芯片
申请号:CN202511077416
申请日期:2025-08-01
公开号:CN120583809B
公开日期:2025-10-14
类型:发明专利
摘要
本发明属于微型发光二极管显示技术领域,提供了一种氮化物微型共振腔发光二极管芯片的制备方法及芯片,方法包括:第一分布式布拉格反射镜阵列单元制备、选区外延生长、氮化物发光二极管外延结构制备、P型透明电极层蒸镀、第二分布式布拉格反射镜叠层制备、N型电极层及金属加厚层沉积以及芯片切割;本发明公开的制备方法无需使用衬底剥离工艺,简化了氮化物微型共振腔发光二极管芯片的制备工艺,并可以显著缩短谐振腔的腔长,增强了氮化物微型共振腔发光二极管芯片的出光方向性和出光强度、降低了发光峰线宽,实现了高性能氮化物微型共振腔发光二极管芯片。
技术关键词
分布式布拉格反射镜
发光二极管芯片
氮化物发光二极管
埋层结构
阵列
发光二极管结构
叠层
金属加厚层
外延结构
离子注入工艺
透明电极层
复合模板
像素区
微型发光二极管
多量子阱结构
周期性
氮化铝衬底
氧化镓衬底