一种用于滑座表面的抛光质量检测方法及系统

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一种用于滑座表面的抛光质量检测方法及系统
申请号:CN202511087407
申请日期:2025-08-05
公开号:CN120921276A
公开日期:2025-11-11
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种用于滑座表面的抛光质量检测方法及系统,涉及抛光质量检测技术领域。该用于滑座表面的抛光质量检测方法,包括以下步骤:粗抛检测有效判断、精抛检测有效判断和抛光质量检测管理。本发明基于粗抛检测数据得到粗抛检测分析结果并判断是否进行粗抛质量检测优化,若是,则在粗抛质量检测优化后判断是否发送滑座精抛质量检测判断指令,否则基于精抛检测数据得到精抛检测分析结果以量化判断精抛检测有效性,最后判断是否进行精抛质量检测优化,实现了更准确的进行滑座表面的抛光质量检测,解决了现有技术中存在由于粗抛质量检测与精抛质量检测关联不充分导致滑座表面的抛光质量检测不准确的问题。
技术关键词
滑座 粗抛工艺 精抛工艺 有效值 数据 检测点 指标 表面质量检测设备 线性回归模型 表面缺陷检测设备 有效性 偏差 抛光液 压力 指令 周期 密度
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