晶圆光刻区多目标快响应调度方法与系统

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晶圆光刻区多目标快响应调度方法与系统
申请号:CN202511127560
申请日期:2025-08-13
公开号:CN121011538A
公开日期:2025-11-25
类型:发明专利
摘要
本发明公开了晶圆光刻区多目标快响应调度方法与系统,涉及柔性作业车间非等效并行机调度技术领域,包括采集光刻区历史生产数据,进行标准化处理,生成训练集与验证集,并构建自适应调度智能体,定义调度环境模型,并实时交互生成历史经验数据,采用滑动窗口特征提取机制动态调整多目标权重,通过并行评估框架更新智能体网络参数,利用验证数据集验证智能体模型性能,将验证通过的调度策略部署至实时调度系统,并通过持续监测晶圆到达事件和设备状态触发动态决策。本发明实现了晶圆光刻区调度的智能化、动态化和多目标优化,显著提高了生产效率、资源利用率和准时交货率,增强了系统对动态变化的适应能力。
技术关键词
响应调度方法 滑动窗口 光刻 数据交互模块 智能体模型 晶圆 调度系统 柔性作业车间 决策 机制 动态更新 更新网络参数 策略更新 因子