摘要
本发明提供的一种基于数据处理的镀膜控制方法和系统,本发明涉及镀膜控制技术领域,该方法包括获取红外高反膜未消除应力的镀膜信息;基于红外高反膜未消除应力的镀膜信息确定多个第一应力消除镀膜方案,第一应力消除镀膜方案包括红外高反膜的掺杂原子浓度分布信息、应力补偿层厚度信息;基于多个第一应力消除镀膜方案分别对多个原始单晶硅基板进行镀膜,并获取每个镀膜后的单晶硅基板信息;基于每个镀膜后的单晶硅基板信息确定目标应力消除镀膜方案;基于目标应力消除镀膜方案对原始单晶硅基板进行红外高反膜镀膜,该方法能够高效精确地对红外高反膜应力分析与消除。