一种多室联动式磁控溅射镀膜装置

本发明涉及镀膜技术领域，具体公开了一种多室联动式磁控溅射镀膜装置，包括：环形真空腔室，侧壁上连通有抽真空管；多个工序腔室，包括装载卸载腔、预处理腔、退火腔及若干溅射腔，装载卸载腔设于环形真空腔室的顶面，预处理腔、退火腔及各溅射腔沿环形真空腔室的外周环形布置，且均与环形真空腔室连通；转盘，可旋转设置于环形真空腔室内部中央，并传动连接有用于驱动转盘旋转的驱动组件；机械臂机构，环形分布于转盘上，转盘在相邻机械臂机构之间均设有隔板，机械臂机构的一端设于转盘上，另一端设有用于安装基板的承载器。本发明结构紧凑、空间利用率高，具备较高的适应性及工艺灵活性，能够避免工艺互扰，提升了生产效率。