微纳加工样品流程追踪方法、装置、存储介质及设备

本发明提供微纳加工样品流程追踪方法、装置、存储介质及设备，包括：步骤S101，在样品进行微纳加工之前，获取样品表面的初始缺陷特征集合；步骤S102，从初始缺陷特征集合中选取任意一个区域的缺陷特征作为缺陷特征第一集合；步骤S103，当样品执行微纳加工任意一个步骤后，获取样品选定区域的缺陷特征第二集合；步骤S104，若缺陷特征第二集合与缺陷特征第一集合的匹配度小于第一阈值，发送样品确认提示信息；步骤S105，若接收到样品一致的确认信息，结合缺陷特征第二集合更新初始缺陷特征集合，并返回执行步骤S102‑S105，直至结束微纳加工流程。