半导体制造设备粒子污染溯源方法及其系统

本发明公开了半导体制造设备粒子污染溯源方法及其系统，涉及半导体污染溯源技术领域，根据没有干扰物存在的历史监测数据构建第一图神经网络模型；根据粒子浓度的预测值和历史监测数据中的观测值得到误差，根据误差形成误差曲线；根据存在干扰物的历史监测数据构建第二图神经网络模型，对当前粒子浓度的预测值和误差曲线进行运算得到当前粒子浓度的真实值，根据当前粒子浓度的真实值进行贝叶斯推论对粒子污染进行溯源；开发洁净室多传感器数据融合平台，构建基于图神经网络的污染传播模型，通过贝叶斯推理定位污染源设备，缩短晶圆厂污染溯源的时间；利用气泡或者水滴快速衰减的特点，修正粒子浓度的真实值，准确追溯污染源设备。