摘要
本发明涉及钻石面碳化硅技术领域,且公开了一种以硅晶圆的原子晶格为模板而在其上生长的钻石膜,介面处硅与钻石原子的比率由100%逐渐减小至约0%,原子比率调整的沉积方法乃用微波等离子体内完成,其硅碳比乃由ALD控制的硅烷比甲烷混入主体的氢气而逐层沉积,钻石膜可外延加厚,钻石膜可为多晶或单晶,钻石膜可用为半导体的芯片或其散热片,如上的钻石膜可用为生长培育钻石的子晶;本发明所述的以硅晶圆的原子晶格为模板而在其上生长的钻石膜,以高硬度材料的共价键与热点区的原子共振,这样就可以使其振动频率大幅度下降,因而可避免热点逐渐破坏了芯片的功能。