晶面调控型宽光谱深紫外LED芯片及其制备方法

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晶面调控型宽光谱深紫外LED芯片及其制备方法
申请号:CN202511223273
申请日期:2025-08-29
公开号:CN120730894B
公开日期:2025-11-21
类型:发明专利
摘要
本发明涉及紫外LED制造技术领域,尤其涉及一种晶面调控型宽光谱深紫外LED芯片及其制备方法。包括:图形化衬底为具有凸起或凹陷的三维立体结构,凸起或凹陷的最高点或最低点与衬底表面的高度差范围为0~10微米;凸起或凹陷由倾斜平面区域组成,倾斜平面区域与衬底表面夹角角度为0~15度;外延结构依次为n型AlGaN层、AlGaN多量子阱结构层、p型AlGaN层;p型欧姆接触复合金属层设置在p型AlGaN层上;n型AlGaN层一侧部分暴露,设置n型欧姆接触复合金属层。优点在于:利用倾斜角对AlGaN组分的调控,在不同区域上形成多组分,实现单片上多光谱集成,稳定性高;发光波段覆盖波长范围大于20 nm。
技术关键词
深紫外LED芯片 图形化衬底 p型AlGaN层 晶面 三维立体结构 激光直写光刻设备 外延结构 光刻胶层 HVPE设备 n型掺杂剂 p型掺杂剂 纳米 蓝宝石衬底 电子束 刻蚀工艺 单片 波长