用于消除气孔和发花的填充胶及其制备方法和半导体芯片

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用于消除气孔和发花的填充胶及其制备方法和半导体芯片
申请号:CN202511233980
申请日期:2025-09-01
公开号:CN120737783B
公开日期:2025-12-16
类型:发明专利
摘要
本发明提供了一种用于消除气孔和发花的填充胶及其制备方法和半导体芯片,涉及半导体封装技术领域,填充胶以质量百分比计包括以下组分:二氧化硅68%~78%,环氧树脂10%~15%,固化剂10%~15%,阴离子型润湿剂0.3%~1.5%,流平剂0.3%~1.5%,炭黑0.1%~0.3%,促进剂0.1%~0.3%;所述流平剂的主要成分为有机改性聚硅氧烷;本发明在环氧体系中加入特定的润湿剂和流平剂,通过各组分的协同作用共同消除填充胶表面的气孔和发花现象,并避免溢胶风险,提高半导体器件封装可靠性。
技术关键词
填充胶 离心搅拌机 有机改性聚硅氧烷 半导体芯片 阴离子型 胺类固化剂 润湿剂 半导体器件封装 酚醛型环氧树脂 二氧化硅 半导体封装技术 封装结构 三辊研磨机 炭黑 真空脱泡 戊二胺 二甲胺 丁二酸