一种低光学损耗电磁屏蔽窗口、及其制备方法、制备系统

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一种低光学损耗电磁屏蔽窗口、及其制备方法、制备系统
申请号:CN202511248820
申请日期:2025-09-03
公开号:CN121013320A
公开日期:2025-11-25
类型:发明专利
摘要
本申请提供一种低光学损耗电磁屏蔽窗口、及其制备方法、制备系统,电磁屏蔽窗口包括:透光窗口基底具有沿第一方向分布的基底上表面和基底下表面;随机网络导电膜组包括上导电膜和下导电膜,随机网络导电膜组内的上导电膜和下导电膜均为随机六边形网络结构,用于抑制高级次衍射并降低光学损耗;上导电膜和下导电膜具有相同的结构周期,且上导电膜的线宽大于下导电膜的线宽,构成准对称结构;准对称结构的线宽差异基于水平偏移误差容限进行优化,以使电磁屏蔽效能不低于30dB、且光学损耗低于传统单层或对称双层结构。该窗口可提高光学系统的成像质量,确保光学成像清晰、准确。
技术关键词
电磁屏蔽窗口 导电膜 准对称结构 电磁屏蔽效能 偏移误差 六边形 网络结构 基底 损耗 蚀刻工艺 透光 双层结构 参数 周期 光刻 镀膜 光学成像 算法模型