摘要
本申请提供了一种光学邻近效应校正方法、系统、终端及介质,所述方法包括获取光刻掩模版设计图形的多组初始参数组合,以构成初始种群;其中,所述初始种群中的每一初始个体对应于一组初始参数组合;确定所述光刻掩模版设计图形的多个优化指标,以基于所述多个优化指标和约束条件确定光学邻近效应校正函数;基于所述光学邻近效应校正函数在所述初始种群的迭代过程中获取所述光刻掩模版设计图形的最优参数组合。本申请创新地将优化算法引入光学邻近效应矫正领域,通过引入多个优化指标实现综合性地光学邻近效应矫正,有效满足高精度硅光芯片制造需求,有效提升硅光芯片性能。