一种衍射光学元件的制备方法

本发明涉及一种衍射光学元件的制备方法，包括以下步骤：根据目标光场功能进行逆向设计，计算得到对应的目标相位分布图；在基片表面旋涂光取向材料层；将所述目标相位分布图加载至空间光调制器，利用紫外光源发出的光束经数字微镜器件调制后生成结构化光场，并投射至光取向材料层上进行曝光，诱导光取向材料发生定向光化学反应；在曝光后的光取向材料层表面旋涂液晶层，使液晶分子按预设取向排列形成衍射光学元件。与现有技术相比，本发明利用数字微镜调控替代传统的掩模光刻与刻蚀工艺，克服了现有技术对于衍射光学元件制作周期长、成本高昂、功能固定、难以独立使用等难题，实现了衍射光学元件的快速、低成本、可编程、高性能的制备。