结合反馈调节的缺陷自适应检测方法及系统

本发明公开了结合反馈调节的缺陷自适应检测方法及系统，涉及半导体技术领域。所述方法包括：采集目标晶圆的目标表面图像，并进行特征提取，生成目标点阵几何结构；随机提取第一数量的原子点，获得K个定位点阵几何结构；对损失程度进行分析，并进行迭代寻优，生成目标定位点阵几何结构；获得目标检测定位图像；进行定位偏移识别，获得偏移识别结果；对电动位移台进行移动，当偏移识别结果满足预设要求时，获得目标量测结果；利用缺陷识别单元对目标量测结果进行分析，获得所述目标晶圆的目标检测结果。解决了传统半导体晶圆缺陷检测中定位精度不足导致检测效率和准确性较低的技术问题，通过优化晶圆定位，达到了提高检测效率和准确性的技术效果。