一种掩模版缺陷检测系统

本发明公开了一种掩模版缺陷检测系统，涉及掩模版缺陷检测技术领域，包括用于放置待检测掩模版的载物台，还包括自动对焦模块、激光扫描模块、信号收集及成像模块以及信号处理模块；自动对焦模块包括第一光源、第一接收器、第一透镜组、第一机械外壳、第一信号处理单元以及第一电机及其驱动部分；本发明中，相较传统纯视觉方案，灵敏度更优且能大幅降低算法压力、提升系统稳定性；其自动对焦模块配合高分辨率成像与激光扫描，可精准检测微米级乃至亚微米级缺陷；同时模块化设计能灵活适配不同尺寸和类型的掩模版，广泛适用于半导体、光电子、精密光学等高端制造领域。