一种掩模板图案的制作方法

本发明提供一种掩模板图案的制作方法，涉及半导体技术领域。掩模板图案的制作方法包括如下步骤：提供晶圆的尺寸数据、芯片图形及与晶圆对应的初始曝光区域的尺寸数据；逐渐减小初始曝光区域的面积，获得多个中间曝光区域；根据中间曝光区域的面积计算晶圆的尺寸对应的芯片数量；将芯片数量相同的中间曝光区域计为一组，并将面积最大的中间曝光区域记为最终曝光区域；根据最终曝光区域的形状设计掩模板边框；根据芯片图形的尺寸选择掩模板边框，并使掩模板边框环绕芯片图形设置。本申请掩模板图案的制作方法，晶圆对应芯片数量相同的掩模板使用同一个掩模板边框，不仅可以保证晶圆的产出，还可以避免重复设计掩模板，提高工作效率，降低出错概率。