基于芯片老化分析的微观结构变化追踪方法

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基于芯片老化分析的微观结构变化追踪方法
申请号:CN202511432168
申请日期:2025-10-09
公开号:CN120908646B
公开日期:2025-12-09
类型:发明专利
摘要
本发明涉及数据分析技术领域,是基于芯片老化分析的微观结构变化追踪方法,具体包括:获取芯片出厂结构数据导入芯片变化预测模型,得到初始聚集稳定指数,进行芯片老化情况评估,若评估结果为待翻新等级,则进入芯片检修翻新流程;若评估结果为待回收等级,则构建物理场耦合迁移模型,分析输出芯片上贵金属原子初始的瞬时迁移速度;对邻近贵金属原子进行干扰分析,并对瞬时迁移速度进行修正补偿,追踪得到芯片上各个回收评估点位置的贵金属原子的聚集密度情况,并筛选出芯片的高潜力点。本发明解决了现有技术中,老化芯片上高潜力回收点识别效率低下的问题。
技术关键词
追踪方法 芯片 三维结构 密度 物理 速度 材料屈服强度 日志 数据分析技术 指数 高斯核函数 图谱 应力 方程 实时位置 序列 可读存储介质 电场