一种待封装芯片、制备方法及半导体器件
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一种待封装芯片、制备方法及半导体器件
申请号:
CN202511485051
申请日期:
2025-10-17
公开号:
CN120955060A
公开日期:
2025-11-14
类型:
发明专利
摘要
本申请提供了一种待封装芯片、制备方法及半导体器件,待封装芯片包括:初始芯片,所述初始芯片包括顶层金属层;凸块结构,设置在所述初始芯片的顶层金属层之上,所述凸块结构包括第一氧化层、钝化层、第二氧化层和外接金属层,所述钝化层设置在所述第一氧化层和所述第二氧化层之间,所述第一氧化层最靠近所述顶层金属层,所述金属层外接作为所述凸块结构的顶层且连接所述顶层金属层。
技术关键词
封装芯片
凸块结构
氧化层
半导体器件
非金属
蚀刻
接口
电路板