一种基于像素化投影的物理光学散射场计算方法

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一种基于像素化投影的物理光学散射场计算方法
申请号:CN202511494036
申请日期:2025-10-20
公开号:CN120974564B
公开日期:2025-12-26
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种基于像素化投影的物理光学散射场计算方法,属于计算电磁学领域,计算方法包括:获取目标三维CAD模型后进行相应设置参数,并将目标进行曲面投影生成投影区域;将投影区域进行像素化离散并进行曲率约束,计算像素点的辐射函数并构建辐射图像;对每个像素点通过闭式表达式计算震荡积分,并通过GPU并行架构计算得到总散射场后输出。本发明基于物理光学(PO)基本理论,该方法在满足PO适用条件的前提下,能保证较高的计算精度。像素化投影方式能够更精细地描述目标的几何细节和表面特性,从而更准确地模拟复杂形状、边缘效应以及非均匀材料表面的散射行为,提升了方法对实际工程目标的适用性和计算结果的可靠性。
技术关键词
散射场计算方法 三维CAD模型 GPU并行架构 像素点 曲面 垂直极化分量 非均匀材料 表达式 图像 参数 坐标 电场 网格 分层 波长 因子 理论 算法