一电浆表面蚀刻工艺侦测装置

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一电浆表面蚀刻工艺侦测装置
申请号:CN202580000173
申请日期:2025-02-19
公开号:CN120266264A
公开日期:2025-07-04
类型:发明专利
摘要
一种电浆表面蚀刻工艺侦测装置,其包括:一侦测载台,系用以侦测待测物的电浆表面蚀刻工艺状态;一侦测孔,该侦测孔置于该侦测载台任一位置上,该侦测孔在该侦测载台具有一深度;以及一侦测器,系置于该侦测孔内的至少一侧边;其中当该侦测载台进行侦测该待测物的表面蚀刻工艺状态时,该侦测孔对准侦测的待测物位置时,系利用置于该侦测孔内的该侦测器进行侦测该待测物的表面蚀刻工艺状态。
技术关键词
蚀刻工艺 侦测装置 微型光谱仪 侦测器 载台 孔对准 生物芯片 半导体 分辨率 波长