光刻机对准方法、装置及光刻机

本申请实施例提供一种光刻机对准方法、光刻机对准装置及光刻机，涉及集成电路装备制造技术领域。在上述光刻机对准方法中，通过实时监测晶圆与掩模版之间的间隙和对准偏差，并将实时间隙和实时对准偏差作为反馈信息，通过闭环控制算法调整工件台的位置，以减小晶圆和掩模版之间由于相对自由振动导致的误差，提高晶圆与掩模版之间的对准精度。此外，采用多个压电电机对工件台不同方向上的运动进行调整，可以更精确地控制工件台的移动，提高晶圆与掩模版之间的对准精度。